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Hellma氟化鈣LD-A-級CaF? 193nm深紫外光學應用
發(fā)布時間： 2026-02-09 點擊次數(shù)： 116次Hellma氟化鈣LD-A-級CaF? 193nm深紫外光學應用
在深紫外（DUV）光學檢測、光刻、激光加工、光譜分析等領域，光學窗口、棱鏡、透鏡等核心元件的材料性能直接決定系統(tǒng)的精度與穩(wěn)定性。德國Hellma Analytics旗下的LD-A-級氟化鈣（CaF?）晶體，針對193nm深紫外波長優(yōu)化制備工藝，具備極低的深紫外吸收、超高的光學均勻性、優(yōu)異的熱穩(wěn)定性與化學惰性，成為193nm波段光學系統(tǒng)的材料。該型號氟化鈣晶體突破了傳統(tǒng)光學材料在深紫外波段的性能瓶頸，其技術優(yōu)勢在半導體光刻、深紫外光譜分析、激光微加工、環(huán)境監(jiān)測等行業(yè)的應用中得到充分驗證，奠定了Hellma在光學晶體領域的地位。
Hellma LD-A-級CaF?（193nm）核心技術優(yōu)勢解析
Hellma LD-A-級CaF?（193nm）作為超高純度氟化鈣晶體的規(guī)格，核心優(yōu)勢體現(xiàn)在光學性能、晶體品質(zhì)、機械特性、環(huán)境適配四大維度，針對193nm深紫外波段的應用痛點形成系統(tǒng)性解決方案：
極低的深紫外吸收，保障193nm波段高透光率
Hellma LD-A-級CaF?晶體采用**真空坩堝下降法（VB法）** 結合區(qū)熔提純工藝制備，原料選用99.9999%（6N）超高純氟化鈣，雜質(zhì)含量（如Fe、Cu、Si、OH?等）控制在ppb級別。在193nm深紫外波段，該晶體的線性吸收系數(shù)≤0.001 cm?1，遠低于普通工業(yè)級CaF?（吸收系數(shù)≥0.01 cm?1），室溫下對193nm波長的透光率≥92%（10mm厚度），且透光率在-50℃~+200℃溫度范圍內(nèi)波動≤0.5%，無明顯的溫度誘導吸收峰。
同時，晶體經(jīng)特殊的表面拋光工藝處理，表面粗糙度Ra≤0.5nm，表面平整度≤λ/20（λ=632.8nm），有效降低193nm波段的表面反射損耗，鍍膜后的光學元件反射率可控制在≤0.1%@193nm，大化提升深紫外光的傳輸效率，避免因材料吸收或反射導致的光學系統(tǒng)能量損耗與熱畸變沈陽漢達森yyds吳亞男。
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